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詳細介紹
Excite Pharos 飛秒激光剝蝕系統是市面上很具操作性的飛秒系統，采用結構緊湊、全密閉的工業級激光源，無需二次校準和清潔維護。系統提供多種波長可選，如1028nm、257nm、206nm，或配置多波長切換控制，相對應的能量密度為10J/cm2(1028nm)、5J/cm2(257nm)、3J/cm2(206nm)，在長期穩定運行情況下剝蝕穩定性RSD能達到0.1%。同時系統配備HelEx II雙體積雙氣路渦流樣品池，提供快速沖洗效率和持續的剝蝕環境。
飛秒激光剝蝕
Excite Pharos 飛秒激光剝蝕系統產品特點：
美國CETAC的激光剝蝕/激光燒蝕產品線源于全球行業之一的Photon Machines團隊（縮寫PMI），其第一代產品于1995年問世，該品牌具有豐富的激光剝蝕產品設計、研發、制造及應用經驗，產品線涉及213nm固體激光、193nm準分子激光、飛秒激光系統（與ICP-MS聯用），及CO2和二極管激光熔融系統（與惰性氣體同位素質譜聯用），此外多種高性能配件與更加直觀的分析軟件能夠增強并完善系統的功能，足以為全球元素分析用戶提供先進的激光剝蝕技術。
Excite Pharos 飛秒激光剝蝕系統技術參數：
激光源為Light Conversion-Pharos 2mJ或Pharos SP 1.5 mJ
激光波長1028nm、257nm、206nm可選
脈沖寬度<190fs-10ps
脈沖能量可達2mJ
可調脈沖頻率1-200kHz（步進1Hz）
波長轉換選項廣（諧波發生器、OPA、NOPA、連續發生器）
只經歷一次光學折射以減少脈沖展寬
每個波長都有獨立的光路
獨立的視頻和激光光學控制單元，能夠更好的查看樣品剝蝕點
連續可調光斑大小1-65μm
兼容HelEx II雙體積雙氣路渦流樣品池
集成的冷卻系統減少實驗室空間
Excite Pharos 飛秒激光剝蝕系統應用領域：
基礎分析，半導體材料分析，地質樣品分析，同位素比值研究
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